风速仪的严格的要求

第一次开始并覆盖第1次的结果。每次测量结果都自动保存，以便日后调阅。三、调阅测试结果 1转动波段开关在任意一电压档，此时电源接通。2选择测试编号状态下，可按动设置键（12进入查询测试结果状态。3按动上

蚀油墨工艺

刚好与第一种相反，化学蚀刻法第二种方法。风速仪器到对高频产品电极图形区域内印制是阻蚀油墨保护起来，然后把产品浸入化学蚀刻液中，让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后，再把阻蚀油墨从产品电极图形表面剥离下来，形成产品电极图形。线宽和线距做到0.08mm仍可以达到95%以上的蚀刻良率。这种方法在PCB线路板、薄膜开关、风速仪式触摸屏、光伏电池等产品生产上，目前占据主流的地位。

阻蚀油墨分为物理剥离型和化学溶液剥离型。其中物理剥离型阻蚀油墨，按照最后剥离去的方式不同。除了用在电子产品图形制备生产中，更多的用在产品表面防护上，以阻止外力损伤产品，

风速仪器的充电隔绝外面环境中的水、电、气，防止它腐蚀产品。其中在电子行业里应用最多的就是电路板绝缘保护胶，和触摸屏生产中的表面保护胶。由于物理剥离型阻蚀油墨，如果在产品转序过程中，需要去除的话，使用物理外力撕下剥离的所以一般它丝印厚度要求在化学溶液剥离型阻蚀油墨的丝印厚度的二到三倍以上，并且在固化程度上，不能象化学溶液剥离型阻蚀油墨一样，只要达到表面固化即可，也要求一定要完全固化，这样在生产的后续加工过程中，边缘部分不会因为挤压而变形破裂，需要移除的时候，产生边缘残留。触摸屏的生产过程中，表面保护胶的边缘残留，影响产品生产效率和品质良品率的主要因素之一。

刻胶工艺分为以下几个步骤：风速仪的插入损耗值光刻胶涂覆—光刻胶预烘—图形复制（曝光）--图形显影—光刻胶固化—化学刻蚀-光刻胶剥离

1光刻胶涂覆方法

直接浸入光刻胶中，A 浸渍法：把所需涂覆的材料。然后取出后烘干。这种方法因为材料表面杂质不断污染光刻胶，光刻胶的利用率很低，对光刻胶浪费很大，同于材料的清洁程度不同和操作控制比较随便，膜层厚度很不稳定，得到精细图案能力也不太强，目前很少有人在继续使用。

上面倒上光刻胶，B离心旋转法：把所需涂覆的材料放在离心机旋转平台上。然后按设定的转速和时间进行涂覆后再烘干。这种方式比浸渍法更容易得到精细的电极图案、生产批次稳定和批次重复性高的工艺数据等。前期设备投入费用较低，产品品质较稳定，X风速仪特别是一些高世代大尺寸产品和一些小规模产线的产品生产中，仍占有很重要的地位。当然它也没有克服光刻胶利用率低的缺点。

也是为ITO完全蚀刻时间的三到五倍。以保证需要去除ITO部分能彻底蚀刻干净。学蚀刻时间的安全系数与显影时间的安全系数类似。

7光刻胶剥离

让光刻胶溶解在碱液中，把蚀刻好的ITO膜放入强碱中。风速仪的设计的容量标准完全露出ITO线路和ITO工作面，再用水清洗干净上面的碱液，利用光刻胶化学蚀刻方法进行ITO图形制备的整个工艺流程就完成了

化学蚀刻方法制备ITO图形，从上面看来。无非就是复制设计图案，制作一层图案选取层，把一部分ITO表面进行保护遮盖后，让裸露的部分ITO与化学蚀刻液产生反应腐蚀掉，得到与设计图案一致的ITO图形。这个过程中，图案选取层的材质与ITO表面的表面亲和力，以及与外物污渍的溶解能力，直接会影响图案选取层的遮盖效果。所以在一些使用蚀刻膏和抗蚀油墨的场合，主要是找到对外物污渍溶解能力比较强，粘度比较高适合丝印的材料；而在一些制作精细图案使用光刻胶的场合中，则需要降低粘度，以得到足够薄的阻蚀层，风速仪的两极为了得到比较副真的图案复制效果，又需要光刻胶材料具有比较高的表面张力，这就使得光刻胶与ITO表面的亲和力降低，因而对光刻胶的纯净度和ITO表面的洁净度有很严格的要求，以便能让光刻胶在ITO膜表面得到更均匀一致的浸润效果。这样一来，对ITO膜的表面处理、ITO膜和光刻胶的使用和保存环境，都相应有很严格的要求。

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